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光刻膠是微電子行業的工藝流程中設計到微細圖形加工的關鍵材料之一。例如集成電路的生產中就使用了光刻膠，印刷工業也是光刻膠的另一重要應用領域，同時還有模擬半導體、發光二極管、太陽能光伏、生物芯片、光電子器件/光子器件等領域。光刻膠的生產使用技術復雜，品種較多，衡量標準也很多，光刻膠的比重是衡量光刻膠密度的重要指標，較大的比重意味著光刻膠中固體的含量更多，粘滯性越高、流動性更差。越小的粘滯性就越有均勻的光刻膠厚度。

光刻膠生產有著嚴格的潔凈度要求，頗勒過濾結合產品過濾實際，各種污染物，金屬離子的析出要求，制定了這類特殊產品的過濾解決方案，確保了產品的質量。